OFK-800標氣質(zhì)量分析儀

OFK-800標氣質(zhì)量分析儀，是基于離軸積分腔輸出光譜技術(shù)（OA-ICOS）開發(fā)的一款高精度、高靈敏度的痕量氣體 分析儀。 設備采用紅外激光離軸入射至高精度腔室，有效光程高達幾千米，極大的提高了探測極限，結(jié)合特別的內(nèi)部溫度和壓力控制技 術(shù)，為客戶提供超穩(wěn)定的測量，可在多種復雜工況和應用條件下實現(xiàn)超高的精密度、準確度和更小的漂移，適用于環(huán)境空氣、工業(yè)過程控制或需要靈敏度的應用的超痕量氣體檢測。

應用領域

氣體質(zhì)量檢測：空分行業(yè)氣體純度檢測或雜質(zhì)氣體檢測，氣體廠家出廠檢測。

特點

l 動態(tài)范圍寬：具體取決于測量量程

l 測量精度高：示值誤差≤±1%

l 可同時檢測多種氣體，集中控制，智能化管理。

l 單線光譜技術(shù)，單線光譜技術(shù)不受背景氣體交叉干擾影響。

l 動態(tài)量程測量范圍，可兼顧大、小量程。

l 檢測限低、靈敏度高、漂移小。

l 支持自動校準和自動反吹功能。

技術(shù)指標：